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新型抑制剂对铜膜CMP后碟形坑与蚀坑的影响

发布于2022-12-5
来源电子元件与材料, 2022, 41(12): 1367-1373. DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2022.0516
作者李子豪, 周建伟, 王辰伟, 等.
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