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不同表面活性剂对浅沟槽隔离CMP中SiO2与Si3N4速率选择性的影响

发布于2023-5-5
来源电子元件与材料, 2023, 42(5): 578-583. DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2023.1635
作者张月, 周建伟, 王辰伟, 等.
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