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磁控溅射制备高循环稳定性的氟氧化铜薄膜研究

发布于2020-7-5
来源电子元件与材料, 2020, 39(7): 28-34. DOI：10.14106/j.cnki.1001-2028.2020.0339.
作者宋世湃, 彭翔, 彭晓丽, 张晓琨, 向勇.
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