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高速芯片之间光互连技术与试验平台
作者:管理员  来源:电子元件与材料  浏览:176次  更新:2010-5-4 17:22:12

高速芯片之间光互连技术与试验平台

 

研究目标:掌握基础性的高速芯片之间光互连关键技术,研制开发出高速芯片之间光互连基础试验验证平台,完成相关光互连实验、性能测试与典型功能演示。

主要研究内容:研究以高密度、高速化、集成化、抗干扰、低功耗为特征的新型光互连技术路线与实现方法。重点研究高速芯片之间光互连关键技术,主要包括高速、高密度、高可靠性的光互连设计技术、芯片/模块制作技术、接口技术、封装技术以及相关的工艺技术和试验平台技术。探索在大容量数据传输、新一代通信设备、高性能计算机等方面的系统应用技术。

主要指标:研制完成高速芯片之间光互连基础试验平台;实现光互连数据总容量不低于60Gbps,单通道速率不低于5Gbps,并行通道数不低于12个,误码率优于1010

说明与要求:完成符合上述技术指标的相关实验系统,开展性能测试与典型功能演示。

课题负责: 中国科学院微电子研究所

本方向2007年拟支持课题1-2个,每个课题支持强度不超过500万元。

     注: 相关研究论文请参考《电子元件与材料》2010年第368页,咨询电话:028-81872522  84391569

 
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